氣體說明

六氟化硫（sulfur hexafluoride）是一種無色、無臭、無毒、不燃的穩(wěn)定氣體，化學式SF?它的分子量為146.07，在20℃和0.1 MPa時密度為6.1kg/m3，約為空氣密度的5倍。六氟化硫在常溫常壓下為氣態(tài)，其臨界溫度為45.6℃，三相點溫度為-50.8℃，常壓下升華點溫度為-63.8℃。六氟化硫分子結構呈八面體排布，鍵合距離小、鍵合能高，因此其穩(wěn)定性很高，在溫度不超過180℃時，它與電氣結構材料的相容性和氮氣相似。

六氟化硫主要用途

1、新一代超高壓絕緣介質(zhì)材料。作為良好的氣體絕緣體，被廣泛用于電子、電氣設備的氣體絕緣。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子技術領域，用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。在光纖制備中用作生產(chǎn)摻氟玻璃的氟源，在制造低損耗優(yōu)質(zhì)單模光纖中用作隔離層的摻雜劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環(huán)境檢測及其他部門用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。在高壓開關中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。利用其化學穩(wěn)定性好和對設備不腐蝕等特點，在冷凍工業(yè)上可用作冷凍劑（操作溫度－45~0℃之間）。由于對α粒子有高度的停止能力，還用于放射化學。此外還作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。
2、可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。在微電子業(yè)中，可用六氟化硫蝕刻硅表面并去除半導體材料上的有機或無機膜狀物，并可在光導纖維的制造過程中，作為單膜光纖隔離層摻雜劑。加有六氟化硫的電流遮斷器額定電壓高，且不易燃燒，另外，六氟化硫還用于各種加速器、超高壓蓄電器、同軸電纜和微波傳輸?shù)慕^緣介質(zhì)。目前六氟化硫是應用較為廣泛的測定大氣污染的示蹤劑，示蹤距離可達100km。六氟化硫化學穩(wěn)定性好，對設備不腐蝕，在冷凍工業(yè)中可作為冷凍劑(操作溫度在-45～0℃之間)，作制冷劑替代氟利昂，對臭氧層完全沒有破壞作用，符合環(huán)保和使用性能的要求，是一種很有發(fā)展?jié)摿Φ闹评鋭Ｓ米麟姎饨^緣介質(zhì)和滅弧劑，測定大氣污染程度的示蹤劑。
3、主要用于高壓開關中滅弧，在大容量變壓器和高壓電纜中作為絕緣材料使用。可在核粒子加速器及避雷器X射線設備中作為氣體的絕緣材料，利用SF6化學穩(wěn)定性好，對設備不腐蝕，在冷凍工業(yè)中可作為冷凍劑（操作溫度在－45～0℃之間），SF6對α-粒子有高度的停止能力，故在放射化學中也有應用；也可作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。
4、用作電子設備和雷達波導的氣體絕緣體。