氣體說明

四氟化碳，又稱四氟甲垸。無色，無味，無嗅氣體。不溶于水，常壓下25℃時為0.0015，溶于氯仿和苯。本品無毒、不燃。高濃度時有麻醉作用。其高純氣及其配高純氧氣的混合氣，是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，Chemicalbook也可作為低溫制冷劑、低溫絕緣介質。化學穩定性及熱穩定性均好，對許多試劑呈惰性，在1000℃下不水解。常溫下不與銅、鎳和鎢反應。由于C-F鍵的化學穩定性極強,因此以CF4為代表的全氟烴可認為是基本無毒的。

主要用途

四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于化學穩定性極強，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業等。

儲存及注意事項

儲存于陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。